28~7nm 技术节点光刻成像误差容限更小,因此先进计算光刻必须建立“矢量”光刻成像理论、非零误差、多目标、全视场成像理论,以及先进、快速的算法。先进计算光刻可获得更加匹配实际光刻系统所需的光源和掩模结构,减少工艺迭代周期,最终实现高分辨、大焦深、高保真的光刻成像。

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